超纯水工艺发展,驱动半导体工业进步
超纯水是高质量芯片制造的重要保障,与半导体生产良品率、生产成本等息息相关。正因如此,半导体厂商十分注重超纯水生产企业的选择,具有先进工艺及水资源管理能力的超纯水企业,往往能优先获得厂商青睐。
众所周知,在芯片制造过程中,各种杂质和离子会附着在芯片表面,因此清洗环节贯穿于芯片制造全过程。芯片清洗过程离不开超纯水,而一旦清洗用水中含有微量杂质,这些杂质可能会在芯片表面留下痕迹或引起电子元件的损坏,从而降低芯片的质量和良品率。数据上1%的良品率变化,对于一个高产能工厂将意味着上亿的利润损失,甚至让整座晶圆厂停摆。可见,选择符合芯片生产要求的高品质超纯水,是提升良品率,确保稳定性生产的先决条件。而伴随半导体元件尺寸的缩小和精细度的提升,对超纯水质量的要求越来越高,相应的超纯水工艺也日趋复杂。
此外,超纯水工艺还是半导体厂商降本增效的“密码”。半导体是用水密集型行业,吸收了27%的工业用水,不过行业一直存在水资源回收和循环利用率不高的问题,导致了水资源的浪费,这不仅增加了半导体制造的成本,还对水资源的可持续利用造成了一定的压力。另外,随着芯片生产的先进制程技术越进步,清洗步骤越多,用水量会呈指数级提升。因此,提升半导体用水效能,是半导体企业降低生产成本,提升竞争力和实现可持续发展的关键突破口。越来越多半导体企业开始探索通过提升水资源利用率来降低生产成本,保障可持续发展。
高频科技先进超纯水工艺,助力半导体高效可持续发展
作为领先的本土超纯水工艺技术企业,高频科技专注于芯片、显示等半导体高端制造业,为半导体高端制造等行业客户提供领先的超纯水与循环再生解决方案及装备,助力半导体企业更好地应对良品率、技术迭代以及可持续发展的挑战。
在超纯水水质指标提升方面,高频科技取得重要成果,超纯水杂质浓度解决方案有了突破进展,特别是在PPB级别的TOC、溶解氧去除,以及PPT级别的硼、硅等特殊物质的去除方面。通过过硬的技术把控力和工程实践经验,针对有机物(TOC)、颗粒物、细菌、金属和阴离子等影响良率的主要杂质,已经实现领先于行业的技术成果,产水水质接近绝对纯度,电导率无限接近18.24MΩ•厘米的理论极限值,其纯度可达99.9999999999%,可以有效地避免微量杂质对芯片的影响,保证芯片的质量和稳定性,从而提升良品率,实现精益生产。
此外,基于自身先进工艺和丰富的经验,高频科技率先将绿色工厂理念植入半导体水系统,为客户提供领先的超纯水与循环再生解决方案及装备,协助半导体企业降本增效。高频科技研发交付了超过30种可选回用水工艺技术,实现水制程回收率达75%-90%,让每一滴超纯水都可以循环再利用,助力企业提升工业用水效能,为降本增效和高质量可持续发展奠定基础。
依托公司大批自有优秀半导体水系统专家的资深经验,高频科技创立标准化运维专家模型,为半导体工厂量身定制一体化运维服务体系,满足客户全周期运维需求,实现规范管理、降本增效、省事舒心。
当前全球正在进行半导体产业链的第三次转移,中国大陆成为半导体产业第三次转移的核心地区,这将带动产业发展方向转变和分工细化专业化,进而推动行业的革新和发展。高频科技将不断通过技术创新提升超纯水工艺成熟度,为半导体厂商提供高运营率、高良率的全方位解决方案,进而推动半导体产业链发展,一起“链”向未来,共创半导体产业链新局面。
