“黑名单”刺激光刻机概念走强，差距缩小中国企业加速追赶

1月13日，A股光刻机概念走高，多只概念股上涨。截至收盘，茂莱光学上涨15.23%，永新光学上涨8.70%，波长光电上涨6.87%，国林科技上涨6.78%，东方嘉盛上涨6.11%。

消息面上，日前，美国商务部工业和安全局（BIS）修订了《出口管理条例》，涉及中国、缅甸和巴基斯坦等三个国家的13家实体，而中国实体占其中11家。其中，涉及中国科学院长春光学精密机械与物理研究所与中国科学院上海光学精密机械研究所，此外，还有多家从事光学元件开发的企业也被纳入名单。

根据公开资料，长光所和上光所是光刻机产业链的“排头兵”。

国内外各具优势

光刻机，又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。而光刻机行业则是一个高度技术密集型和资本密集型的行业，其发展水平直接反映了一个国家在半导体制造领域的实力。

随着半导体产业的快速发展，光刻机的市场需求不断增长，市场规模持续扩大。为了满足半导体工艺对更小线宽和更高集成度的需求，光刻机的技术升级速度不断加快，市场竞争也日益激烈。

目前，国外先进光刻机厂商拥有更强大的技术研发能力和生产制造能力，其产品通常具有更高的分辨率、更小的制程尺寸以及更好的稳定性和可靠性。相比之下，国内光刻机在技术方面还有一定的差距，但正在逐步缩小。

相反的，国内光刻机在价格上具有一定的竞争优势，因为国内制造商的成本控制能力和生产规模较大，能够以更低廉的价格提供光刻机设备。

中国企业厚积薄发

在高端光刻机领域，特别是极紫外（EUV）光刻机方面，ASML（阿斯麦）处于绝对领先地位。公开资料显示，ASML是目前全球唯一能制造极紫外光刻机的企业，其EUV光刻机在全球市场中占据了100%的份额。

此外，蔡司、尼康、佳能、Newport、Jenoptik、徕卡、奥林巴斯等国际企业在全球工业级精密光学市场中占据了超过70%的市场份额。这些企业虽然不专注于光刻机制造，但也在相关领域拥有强大的技术实力和市场份额。

对比来看的话，在全球光刻机市场中，目前中国企业的占比较低。其中，上海微电子是中国光刻机的绝对龙头，出货量已占国内市场份额超过80%。其产品主要涉及ArF、KrF和i-line领域，已具备90nm及以下的芯片制造能力。

近年来，随着国家政策的扶持和行业的发展，中国光刻机企业正在逐步崛起。

2024年，工业和信息化部等七部门联合发布《关于推动未来产业创新发展的实施意见》，旨在推动有色金属、化工、无机非金属等先进基础材料升级，发展高性能碳纤维、先进半导体等关键战略材料，并加快超导材料等前沿新材料创新应用。这为光刻机所需的半导体材料等领域提供了发展指导，有助于提升光刻机制造的原材料水平。

2023年，河北省发布《加快建设数字河北行动方案（2023-2027年）》，该方案旨在加快石家庄信息产业集群建设，完善半导体材料、集成电路、卫星互联网等产业链条，推动重大项目建设，打造千亿级电子信息产业集群。

此外，国家不定期发布行业税收优惠，资金支持等政策，并设立科技研发专项基金，都在为半导体行业发展助力，提升整个产业链水平。

国内企业取得技术突破

上述提到，上海微电子是中国光刻机领域的领军企业。在全球后道光刻机市场，上海微电子占有率高达37%，在中国市场的占有率更是高达85%。

此外，华卓精科、国科精密、浙江启尔机电、东方晶源、沈阳芯源微、大族激光和福晶科技等，这些企业在光刻机整机、关键零部件、曝光系统、浸液系统等方面取得了显著进展，为国产光刻机的发展提供了重要支持。

股价在今天实现上涨的茂莱光学是国内稀缺的工业级精密光学综合解决方案提供商。公司为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜，以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件，是光刻机实现光线均匀性与曝光成像的关键模块。

在半导体应用领域，波长光电则已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力。公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套，并已交付多套系统用于接近式掩膜芯片光刻工序。

炬光科技成立多年来一直为半导体光刻应用领域提供光刻机曝光系统中的核心激光光学元器件——光场匀化器，供应给世界顶级光学企业A公司，最终应用于全球高端光刻机生产商的核心设备。同时，公司与国内在这一领域的研发单位有广泛合作，公司的光场匀化器产品应用于国内主要光刻机研发项目和样机中。