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国产光刻机之路,造不如买的后果严重

说到光刻机,大家想到的都是荷兰的AMSL公司,现在全球只有他们可以造出最先进的光刻机。要想造光刻机非常困难,因为光刻机所需零件多、技术要求极高。那么,为什么我们国家的光刻机就那么落后呢?

国产光刻机之路,造不如买的后果严重

光刻机像一个照相机,利用光在硅片上进行操作,电路图通过光刻机投射到底片上,就像用光进行雕刻。现在的光刻机是利用极紫外光,同时需要一系列精密的仪器来改变光,最终达到光刻的效果。7nm及以下的先进工艺就是使用EUV光刻机,但目前只有荷兰ASML可以生产能够实现量产的光刻机。#EUV光刻机#

国内的光刻机之路是怎样的呢?早在1977年,我国最早的光刻机诞生,名叫JGK-3,随后,在1985年,就研制出来首台g线1.5um分步光刻机,那时和国外有差距,但差距不超过4年。但是随着时间的推移,80年代末,为了尽快的赶上国外和国内的差距,我们奉行“造不如买,买不如租”的政策,大力引进国外技术,但是国外技术因为其先进性,变相打压了国产技术,竞争之下,国产技术得不到支持,发展缓慢。

国产光刻机之路,造不如买的后果严重

直到2000年,国产企业才重新意识到光刻机领域的落后,开始自主研发,但长久依赖进口使国内技术环境非常落后,人才也大量流失到国外,国内外差距非常大。即使是国内的上海微电子,在国外排名也只能跻身三线。同时,我们还有其他的弱点,那就是没有完善的半导体供应链体系,所以在美国的技术封锁下,我们只能默默挨“卡”。

以前奉行的政策是一个原因,另一个客观原因就是海外的技术垄断,美国一直限制先进技术出口中国,即使出售光刻机,也含有保留条款。海外技术垄断下,自研更加困难。

国产光刻机之路,造不如买的后果严重

即使如此艰难,我们依旧不会停下脚步,国产替代势在必行,相信科研人员的努力,相信国家科技的发展。

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